ドライエッチング 
気体中で反応させ、蒸発させて除去する方法で、基板と反応しやすく、揮発性物質を作りやすいフッソや塩素などのハロゲンなどの化合物導入により行う。ガスエッチング、プラズマエッチング、イオンエッチング、反応性イオンエッチング(reactive ion etching, RIE)がある。